市售通常浓度：溶质的质量分数40%，工业级；质量分数40%，电子级。为高度危害毒物。最浓时的密度1.18g/cm3

随着HF溶液质量分数的提高，HF对碳钢的腐蚀速率是先升高后降低 ^[4]  。

浓度低时因形成氢键具有弱酸性，但浓时（5mol/L以上）会发生自偶电离，此时氢氟酸就是酸性很强的酸了。

液态氟化氢是酸性很强的酸，酸度与无水硫酸相当，但较氟磺酸弱。 ^[5]  腐蚀性强，对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。

用HF（氟化氢）溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO₃的混酸）。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全电离。

氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（主要成分：二氧化硅），生成气态的四氟化硅反应方程式如下：

SiO₂(s)+4HF(aq)===SiF₄(g)↑+2H₂O(l)

生成的SiF₄可以继续和过量的HF作用，生成氟硅酸：

SiF₄(g)+2HF(aq)===H₂[SiF6](aq)，氟硅酸是一种二元强酸。

正因如此，它必须储存在塑料（理论上讲，放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好）、蜡质制或铅制的容器中。氢氟酸没有还原性。如果要长期储存，不仅需要一个密封容器，而且容器中应尽可能将空气排尽。

与硅和硅化合物反应生成气态的四氟化硅（能腐蚀玻璃），但对塑料、石蜡、铅、金、铂不起腐蚀作用。能与水和乙醇混溶。市售氢氟酸溶质质量分数40%，相当于22.5mol/L。35.35%的氢氟酸为共沸混合物。剧毒，最小致死量(大鼠，腹腔)25mg/kg。有腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤能形成较难愈合的溃疡。 ^[5] 

工业上用氟氢化钾加热至500℃进行热分解或用萤石（氟化钙CaF₂）和浓硫酸加热到700℃时来制备氢氟酸。 ^[6] 

硫酸法将干燥后的萤石粉和硫酸按配比1：(1.2～1.3)混合，送入回转式反应炉内进行反应，炉内气相温度控制在280℃±10℃。反应后的气体进入粗馏塔，除去大部分硫酸、水分和萤石粉，塔釜温度控制在100～110℃，塔顶温度为35～40℃。粗氟化氢气体再经脱气塔冷凝为液态，塔釜温度控制在20～23℃，塔顶温度为-8℃±1℃，然后进入精馏塔精馏，塔釜温度控制在30～40℃，塔顶温度为19.6℃±0.5℃。精制后的氟化氢用水吸收，即得氢氟酸产品。 ^[2] 

KHF₂=(500℃)=KF+HF

CaF₂+H₂SO₄（浓）=△(加热)=2HF+CaSO₄

这样收集到的氟化氢常含有水，硅及硫的化合物。在此之后氟化氢可以通过蒸馏等方法来提纯

也可用盐酸与萤石（主要成分是氟化钙CaF₂）反应制取：

CaF₂+2HCl===CaCl₂+2HF

精制提纯法将工业级氢氟酸通过蒸馏提纯，冷凝分离除去杂质，并经微孔滤膜过滤除去尘埃颗粒，制得无色透明的电子级氢氟酸。 ^[2] 

氟气与氢气混合后立刻爆炸，生成氟化氢

F₂(g)+H₂(g)===2HF(g)

其实关于氢氟酸，它在水溶液中有两个平衡：

1HF=H+ F- k1=7.2*10-4

2.HF+F-=HF2- k2=5.2

此时随着浓度增大（大于5mol），HF已经是相当强的强酸了。

由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，可以雕刻图案、标注刻度和文字；半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和正丁烯的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯）还有氟利昂一类的致冷剂。 ^[3] 

氢氟酸和熔融氢氧化钠都能用于微丝表面玻璃包覆层的去除，室温下氢氟酸去除厚度为10 μm的玻璃包覆层的时间大约为150s，熔融氢氧化钠大约需要10 s；玻璃的成分和结构是影响玻璃包覆纯铜微丝耐腐蚀性能的重要因素。采用熔融纺丝法制备了玻璃包覆纯铜微丝,对微丝表面玻璃包覆层的去除进行了实验研究，评价了微丝在氢氟酸和熔融氢氧化钠中的腐蚀行为，分析了玻璃包覆纯铜微丝在强酸和强碱中的耐腐蚀性能，探讨了其腐蚀机理。

化学试剂氢氟酸　GB/T620-2011

工业氢氟酸GB7744－2008